氮气主要用作保护气体、吹扫气体、载气、干燥气体等。在金属热处理工艺过程中氮气作为保护气体，目的是为提高金属材料、零件的质量、光洁度等。在电子工业中清镇气体高纯氮气是半导体集成电路生产工艺不可缺少的保护气、载气。在石化行业中氮气作为保护气、载气，目的是确保石化生产的顺利、安全运行，氮气也是合成氨生产的主要原料气。在建材工业的浮法玻璃生产中，氮气作为锡槽的主要保护气，以实现浮法生产工艺和提高玻璃质量。此外，可以利用氧作氧化剂进行磁流体发电；利用氧气净化污水，利用气体氧气在采矿业中进行深井作业；利用氧气进行深海打捞，潜水作业；利用氧气抢救窒息病人，临危病人；利用氧气保健，如高原登山运动员、地质人员、边疆巡逻战士等特殊人群使用和一般人员泡氧吧等。

工业气体行业的供应模式可以分为两大类：气体零售供应和现场供应。零售供应模式下，供应商通过采购、提纯、分装等工艺加工后向客户配送销售瓶装气和液态气；现场供应模式下，气体供应商一般在客户生产工厂附近修建气体工厂，供应商拥有并为客户运营该工厂。相较于现场供应，零售供应成本要高很多，除了气体的价钱，客户还需要负担相关的包装、分装及配送成本。清镇气体工业气体行业原材料是空气、工业废气、基础化学原料等，其上游行业是气体分离及纯化设备制造业、基础化学原料行业、压力容器设备制造业等。下游领域包括机械制造、冶金、化工等传统行业以及电子半导体、光纤光缆、LED、液晶面板、食品、医药医疗等新兴行业。

在反应瓶和加料漏斗里分别装入1.14g LiAlH4于70mL乙醚中的溶液和2.30mL SiCl4于50mL乙醚中的图硅烷的制备装置溶液。气体在整个合成过程中，把冷浴和指型冷却管分别保持在-15～-20℃和-78.5℃。将仪器抽空后，乙醚开始回流，此时必须要注意避免过多的骤沸。然后，将靠近反应装置的U形管接收器冷却到-95℃(用甲苯冻膏)，其余四个接收器冷却到-196℃(液氮)。在搅拌下，用15min将SiCl4+乙醚溶液加入到LiAlH4悬浮液中。清镇气体为了避免乙醚剧烈回流，使甲硅烷连续地以中等速度分出。调节反应器和真空管路之间的玻璃活塞便可以容易地控制反应速度。将SiCl4加完后，继续搅拌15～20min，以保证反应完全。在此期间，将反应器和真空系统切断以免乙醚逃逸过多。当甲硅烷从真空系统排净之后，将空气通入反应器，拆开真空系统。

高纯气体一般用在集成电路、半导体和电真空器件制造中用作保护气和运载气，化学气相淀积时的载气，液体扩散源的携带气，在高温扩散炉中用作器件的保护气。气体高纯氮气在外延、光刻、清洗和蒸发等工序中，作为置换、干燥、贮存和输送用气体。显像管制造中要求氮气纯度为99.99%以上。在航天技术中，液氢加注系统必须先用超高纯氮气置换，再用超高纯氮气置换。对于高纯气体，任何微小的污染都会严重影响气体的质量，因此气体贮存和运输过程中的洁净和高度密封性特别重要。清镇气体高纯气体主要采用高压钢瓶或低温液化气体容器贮存和运输。高压钢瓶坚实耐用，运输和使用灵活，气体无损耗，但气体纯度稳定性较差；低温液化气体容器单位容积贮量很大，但有气体排放损耗。

为了研究其反应的机制，我们架设了一套真空系统。在两个不的桶中，分别充入氯气与丙烯，再充入氮气以达到想要的比例。清镇气体利用流量控制器来控制氯气与丙烯的流量以控制氯气与丙烯在反应器中的分压光源则是利用汞灯搭配一个特定波长滤片，使得通过反应器的紫外光之波长落在氯分子键解离能附近的大吸收峰。如此，便可产生氯自由基而与丙烯分子进行反应。形成的产物之后通过一个填充碳酸钾的管柱，以滤掉反应中可能生成的氯化氢分子。利用一个低温收集器(约-95℃)，将产物收集起来利用质子核磁共振仪进行分析。气体除了实验的部分，另外还使用了理论计算软体，利用密度泛函数理论，配合不同的基底函数；针对可能的产物、副产物、过渡态以及反应机制进行计算，并与实验结果互相对照。